|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
23rd Lithography WorkshopСеминар (workshop)
- Охват: Международная
- Даты проведения: 21-26 июня 2015
- Место проведения: Ketchum, Idaho, United States
- Число участников из МГУ: 2
- Число докладчиков: 3
-
Описание конференции:
На семинаре представлены современные литографические решения для существующих и будущих технологий производства кремниевых чипов
- Добавил в систему: Кобельков Сергей Георгиевич