Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
XX ICPIG, 1, 167
Конференция
Охват:
Международная
Даты проведения:
15-18 сентября 1991
Место проведения:
Piza, Italia, Italy
Добавил в систему:
Самородов Владимир Анатольевич
Доклады:
1991
Mechanism of I2 dissociation in volume self-sustained discharge in O2-containing mixture
Авторы:
Клоповский К.С.
,
Самородов В.А.
,
Рахимова Т.В.
,
ZAKHAROV A.
1991
Physical aspects of Dry plasma etching of photoresistin barrel reactors
(Стендовый)
Авторы:
Iermolova N.A.
,
Malyarov A.V.
,
Yakunin V.G.
,
Savinov V.P.
,
Sporikhin A.A.
,
Riaby V.A.
1991
The physical processesdynamics in the HF discharge near electrode region
(Стендовый)
Авторы:
Gordeev A.I.,
Shorin A.V.
,
Savinov V.P.
,
Kovalevsky V.L.