ИСТИНА

• Охват: Международная
• Даты проведения: 2010
• Место проведения: Санкт-Петербург, Russia
• Описание конференции:

  Оптическое общество им. Д.М.Рождественского (ООР), Национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и опти ки (НИУ ИТМО), НПК «Государственный оптический институт им. С.И.Вавилова» (ГОИ), МГУ им. М.В.Ломоносова, СПбГУ, «ЛОМО», Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе (ФТИ)

• Добавил в систему: Боголюбов Александр Николаевич

Доклады:

• 2010 Оптимизация масок в фотолитографии с двухстадийным экспонированием
• Авторы: Белокопытов Г.В., Поройкова А.А., Боголюбов А.Н.