ИСТИНА

• Охват: Международная
• Даты проведения: 5-7 июля 2017
• Место проведения: Kanazawa Institute of Technology, Ishikawa, Japan
• Организатор:
  The Vacuum Society of Japan
• Число участников из МГУ: 1
• Число докладчиков: 1
• Веб-сайт: http://issp2017.jp/index.html
• Описание конференции:

  Fundamentals of Sputtering and Plasma Processes Sputtering Processes Plasma Processes Plasma Induced Process Technologies Thin Films Micro and Nano Technologies Applications Others

• Добавил в систему: Палов Александр Петрович

Доклады:

• 2017 3D Monte Carlo model of etching low-k films by F atoms (Стендовый)
• Авторы: Alexander Palov, Yuri Mankelevich, Ekaterina Voronina, Tatyana Rakhimova

• 2017 3D Monte Carlo model of sputtering low-k films by Ar atoms (Стендовый)
• Авторы: Alexander Palov, Tatyana Rakhimova, Ekaterina Voronina