|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Pore sealing in low-k dielectrics by low-energy ionsдоклад на конференции
- Авторы: Voronina E.N., Lopaev D.V., Sycheva A.A., Rakhimova T.V., Mankelevich Yu A.
- Международная Конференция (Семинар (workshop)) : Plasma Etch and Strip for Microtechnology workshop (PESM 2019)
- Даты проведения конференции: 20-21 мая 2019
- Дата доклада: 20 мая 2019
- Тип доклада: Устный
- Докладчик: Voronina E.N.
- Место проведения: Гренобль, France
- Добавил в систему: Воронина Екатерина Николаевна