|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Физические процессы в технологическом плазменном реакторе для магнетронного напыления функциональных покрытий с ионным стимулированиемдоклад на конференции
- Авторы: Вавилин К.В., Задириев И.И., Кралькина Е.А., Никонов А.М.
- Всероссийская с международным участием Конференция : XI Всероссийская (с международным участием) конференция "Низкотемпературная плазма в процессах нанесения функциональных покрытий"
- Даты проведения конференции: 6-9 ноября 2019
- Дата доклада: 7 ноября 2019
- Тип доклада: Стендовый
- Докладчик: не указан
- Место проведения: г. Казань, Russia
-
Аннотация доклада:
Было выполнено исследование цилиндрического индуктивного ВЧ источника плазмы во внешнем магнитном поле. Показано, что при низких магнитных полях можно достичь максимума вложения мощности в плазму. Появление такого максимума связано с генерацией и поглощением связных друг с другом волн. На основе этих данных была собрана полупромышленная установка для магнетронного напыления и ионным стимулированием. ВЧ индуктивный разряд служит для создания направленного потока ионов. Использование низких магнитных полей и мощностей ВЧ генератора позволяет считать подобные системы перспективными для нужд полупроводниковой промышленности.
- Доклад на конференции выполнен в рамках проекта (проектов):
- Добавил в систему: Никонов Александр Михайлович