![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Были исследованы структурные свойства многослойных тонких пленок SiOx/SiO2, SiOx/Si3N4 и SiNx/Si3N4, осажденных на кремниевые подложки методом плазмохимического осаждения из газовой фазы.