ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
|
ИПМех РАН |
||
Нанопористые слои Ge, сформированные имплантацией ионов Ag+ и Cu+ с энергией E=30 и 40 кэВ и дозами от 9.3·10^16 до 1.5·10^17 ион/см2, исследовались методами сканирующей электронной микроскопии и комбинационного рассеяния света (КРС).