ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
|
ИПМех РАН |
||
В работе предложен способ повышения качества печати трехмерных микроструктур методом двух- фотонной литографии за счет учета размера и формы вокселя. На примере изготовления модельных объек- тов показано, что предложенный способ позволяет уменьшить отклонение от заданной формы до 2%.