ИСТИНА

В работе был исследован УФ фотолиз "чистого" озона (95%) при давлениях 100 торр,~1 атм,~2 атм,~3 атм, а также смеси озона с CO2 в газовой фазе и в сверхкритическом диоксиде углерода (СК-CO2). Фотолиз проводился импульсным излучением Nd:YAG лазера с длиной волны 266 нм (четвёртая гармоника основного излучения).В случае "чистого" озона фотолиз осуществлялся одиночным импульсом лазерного излучения,а в смесях с СО2 в газовой фазе и в СК-СО2 в многоимпульсном режиме облучения.В "чистом" озоне квантовый выход(Ф) УФ фотолиза О3 при однократном облучении изменялся от ~90 молекул\квант (100 торр) до ~1400 молекл\квант (~3 атм).В СК-СО2 Ф составил ~0,2 молекул\квант (~1 атм О3,~85 атм СО2). Известно ,что квантовый выход УФ фотохимической декструкции озона в изотермических условиях составляет ~6 молекул\квант.Высокие значения Ф,значительно превышающие 6, полученные для "чистого" озона показывают,что происходит тепловое воспламенение О3 в кювете в результате инициирования одиночным лазерным импульсом.Низкое значение Ф = 0,2 молекул\квант полученное для системы О3 в СК-СО2 показывает, что СО2 в этой системе не только эффективно тушит электронно-возбужденные промежуточные частицы (О,О2),участвующие в процессе фотохимического распада О3,но и способствует частичной регенерации озона по реакции:О2+О+СО2 -О3+СО2.