![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
В настоящем докладе отражены достижения технологии химического газофазного осаждения вольфрама и его соединений из фторидные в области формирования покрытий на основе метастабильных композиций системы W-C. Представлены исследования структуры и свойств карбидовольфрамовых слоев в широком интервале содержания углерода. Показано, что полученные структуры обладают высокой стабильностью вплоть до температур порядка 600 - 650 °С, изучены фазовые превращения в слоях при температурах выше 750 °С. Показаны, что полученные слои системы W-C обладают характеристиками, превосходящими таковые у традиционных технологий получения вольфрам-содержащих материалов. Представлены перспективные направления применения слоев системы W-C для различных отраслей промышленности.