ИСТИНА

В докладе обсуждается результаты исследования коррозионного поведения покрытий системы W-C с низким содержанием углерода в средах с pH от 0 до 14. Для испытаний были выбраны среды, наиболее приближенные к вероятным условиям эксплуатации покрытий, а именно водные растворы минеральных кислот (HNO3, H¬2SO4, HCl, HF), и щелочей (NaOH), хлоридов (NaCl) и сероводорода. Несмотря на то, что коррозия в средах с различным pH протекает в различных режимах (пассивный при pH<5 и активный при pH>5), показано, что в растворах со стандартной концентрацией кислорода (равновесная концентрация кислорода при комнатной температуре и стандартных условиях аэрации раствора), скорость коррозии, как правило, не превышает 20 мкм/год независимо от pH. Это объясняется тем, коррозия покрытий на основе вольфрама во всем диапазоне pH протекает, в основном, с кислородной деполяризацией, а кинетика коррозионного процесса ограничена кинетикой образования оксида вольфрама (IV). При введении дополнительного окислителя (перекись водорода, нитраты, хроматы) в раствор скорость коррозии вольфрама естественным образом увеличивается. Многочисленные исследования также показали, что несмотря на различие химического состава покрытий на основе вольфрама и металлургического вольфрама, их химические свойства во многом схожи, а имеющиеся данные по коррозии вольфрама могут быть использованы для первичной оценки эксплуатационного срока CVD покрытий независимо от их твердости и содержания углерода в них. В сочетании с высокой износостойкостью и низкой пористостью, слои на основе вольфрама могут быть рекомендованы как самостоятельные защитные антикоррозионные покрытия, не требующие пропиток и наполнения ингибиторами для защиты изделий, работающих в условиях совместного действия механических и химических агрессивных факторов.