ИСТИНА

В докладе представлен низкотемпературный метод химического газофазного осаждения вольфрама и его соединений с углеродом из фторсодержащей среды. Метод химического газофазного синтеза позволяет плавно регулировать физико-механические свойства осаждаемого слоя, формировать покрытия различного химического состава и строения: от мономатериалов до градиентных, многослойных и объемных композиций. Обсуждается механизм химического синтеза карбидовольфрамовых композиций из смеси WF6 + H2 + C3H8, который приводит к образованию наноструктурных состояний в формируемых слоях. Представлены покрытия двух типов: композиционные слои на основе вольфрама с наноразмерными включениями карбидов вольфрама и слои индивидуальных карбидов вольфрама и их комбинаций. Изучена структура и свойства слоев в широком диапазоне концентраций углерода. Слои первого типа обладают регулируемой в интервале от 5 до 20 ГПа микротвердостью и высокой прочностью. Обсуждается механизм формирования нанокомпозитной структуры при совместном осаждении вольфрама и карбида вольфрама. Слои второго типа обладают высокой твердостью (29…40 ГПа), и износостойкостью. Показано, что слои карбидов вольфрама различной стехиометрии формируются в различном дисперсном состоянии. Например, размер кристаллитов полукарбида вольфрама составляет 300-500 нм, а синтез монокарбида вольфрама приводит к образованию наноразмерной структуры с характерным размером кластеров в диапазоне 2-5 нм. Обсуждается механизм структурообразования в карбидных системах.