|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Применение маски позитивного электронного резиста для создания субмикронных шин металлизации методом гальванического осаждениядипломная работа (Магистр)
- Научный руководитель: Татаринцев А.А.
- Автор: Бюрисюк Д.А.
- Тип: Магистр
- Организация, в которой проходила защита: Московский физико-технический институт (государственный университет), факультет физической и квантовой электроники, кафедра наноэлектроники и квантовых компьютеров
- Год защиты: 2017
- Добавил в систему: Татаринцев Андрей Андреевич