Аннотация:Выращены эпитаксиальные пленки составов Gd3Ga5O12:Ni2+,Sn4+; Gd3Ga5O12:Ni2+,Ge4+; Gd3Ga5O12:Ni2+,Zr4+; Gd3Ga5O12:Ni2+,Zr4+,Ca2+ и Gd3Ga5O12:Ni; Gd3Ga5O12:Ni,Ca2+ из десяти переохлажденных растворов-расплавов на основе системы Bi2O3-B2O3. Максимальная толщина выращенных эпитаксиальных пленок составляла 88 мкм, а максимальная скорость роста, наблюдавшаяся в экспериментах, достигала 3,1 мкм/мин. Проведено исследование оптического поглощения выращенных пленок.