Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Journal of Chemical Vapor Deposition
журнал
Индексирование: нет
Период активности журнала: не указан
Другие названия журнала:
J. of Chemical Vapor Deposition
,
J.of Chem.Vapor Deposition
Добавил в систему:
Кауль Андрей Рафаилович
Статьи, опубликованные в журнале
1998
Influence of Deposition Conditions on Structure and Composition of -C:H Films
Sleptsov V.V.
,
Khots G.E.
,
Gulina V.L.
,
Antipov A.N.
,
Rudenko A.P.
,
Kulakova I.I.
в журнале
Journal of Chemical Vapor Deposition
, том 6, № 4, с. 314-322
1997
Boron doped diamond films
Zalavutdinov R.Kh
,
Alimov V.Kh
, Alexenko A.E.,
Gorodetsky A.E.
, Zakharov A.P.
в журнале
Journal of Chemical Vapor Deposition
, том 5, с. 331-335
1996
Growth of a-C:H films in low-temperature plasma
Fedoseev D.V.
,
Varshavskaya I.G.
,
Tolmachev Yu N.
,
Bukhovets V.L.
в журнале
Journal of Chemical Vapor Deposition
, том 4, № 1, с. 199-211
1993
Preparation of SnO2 thin films by flash-evaporation MOCVD technique
Сhuprakov I.S.
,
Kaul A.R.
в журнале
Journal of Chemical Vapor Deposition
, том 2, с. 123-134