Plasma Science and Technology - журнал | ИСТИНА – Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных

Plasma Science and Technologyжурнал

Индексирование: Scopus (1 января 1970 г.-), JCR (1 января 1970 г.-)

Период активности журнала: не указан

Издательство: Institute of Plasma Physics
Местоположение издательства: China
ISSN: 1009-0630 (Print)

Статьи, опубликованные в журнале

- 2020 Experimental study of a low-pressure hybrid RF discharge
- KRALKINA Elena, NEKLIUDOVA Polina, PAVLOV Vladimir, VAVILIN Konstantin, ZADIRIEV Ilya, ZHAO Chen
- в журнале Plasma Science and Technology, издательство Institute of Plasma Physics (China), том 22, № 5 DOI
- 2020 Power absorption, plasma parameters and wave structure in inductive RF plasma source with low value external magnetic field
- Nikonov A.M., Kralkina E.A., Zadiriev I.I., Vavilin K.V.
- в журнале Plasma Science and Technology, издательство Institute of Plasma Physics (China), том 22, № 11 DOI