![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Система для химического осаждения из паров летучих прекурсоров, содержащая реакционную камеру, карусельный подложкодержатель, модуль подачи реакционных газов, модуль подачи ионизированных газов для очистки и активации поверхности подложек, нагреватель и средства вакуумной откачки, в которой модуль подачи реакционных газов включает газораспределяющее устройство, выполненное в виде душевой насадки со средствами подвода к ней реакционных газов, причем душевая насадка установлена в верхней части реакционной камеры с возможностью ее перемещения вдоль вертикальной оси камеры, карусельный подложкодержатель установлен в нижней части реакционной камеры с образованием между упомянутым подложкодержателем и душевой насадкой рабочего пространства, а модуль подачи ионизированных газов включает герметичный отсек с установленным внутри отсека ионным источником со средствами подвода ионизируемых газов, где упомянутый источник установлен с возможностью перемещения из отсека в рабочее пространство реакционной камеры, при этом отсек сопряжен с реакционной камерой и отделен от нее герметичным люком, а карусельный подложкодержатель выполнен в виде дискового основания, на поверхности которого размещены несколько дисковых платформ, где дисковое основание и дисковые платформы выполнены с возможностью вращения вокруг собственной оси.