ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
|
ИПМех РАН |
||
Группа изобретений относится к области прецизионной аддитивной печати трехмерных полимерных структур и может быть применена для изготовления оптических элементов в микроскопии, высокоразрешающей томографии, спектроскопии, флуоресцентной спектрометрии. Отличительной особенностью способа является построение исходной 3Д-модели изготавливаемой микроструктуры в системе координат XYZ, изготовление калибровочного образца с последующим определением средних значений размеров полуосей сформированных в образце эллипсоидных вокселей. Затем с учетом измеренных размеров вокселя определяют координаты центров граничных вокселей. После чего построенную модель корректируют. Затем скорректированную модель разбивают на слои, расположенные параллельно плоскости XY, с шагом между слоями, имеющим размер, сопоставимый с размером вокселя вдоль оси Z. В каждом слое формируют траектории движения лазерного луча таким образом, что они не выходят за вспомогательную поверхность, ограничивающую область экспонирования фоторезиста и соответствующую координатам центров граничных вокселей. Также раскрыта система для изготовления трехмерных микроструктур. Технический результат заключается в повышении точности формы рабочей поверхности изготавливаемой структуры.
№ | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
---|