ИСТИНА

Мяконьких Андрей Валерьевич пользователь

кандидат физико-математических наук с 2009 года

Физико-технологический институт им. К.А. Валиева Российской академии наук

Соавторы: Татаринцев А.А., Руденко К.В., Руденко К.В., Рогожин А.Е., Руденко К.В., Шишлянников А.В., Kuzmenko V.O., Крупенин В.А., Ломов А.А., Орешко А.П., Преснов Д.Е., Gornev E.S., Божьев И.В. показать полностью..., Лагов П.Б., Павлов Ю.С., Резванов А.А., Трифонов А.С., Шемухин А.А., Chernomyrdin N.V., Clemente I., Fu D.J., Kalnov V.A., Kochkova A., LUKICHEV V., Lee I.H., Nozdrin V.S., ORLIKOVSKII A., Pearton S.J., Shchemerov I.V., Tikhonenko F.V., Zhevnerov E.V.,  Rudenko K., Белых С.Ф., Дроздов М.Н., Иешкин А.Е., Кобец У.А., Коробейщиков Н.Г., Орликовский Н.А., Пеленович В.О., Поляков А.Я., Рогожин А.Е., Толстогузов А.Б., Andalashvili M., Baklanov M.R., Chanson R., Chernykh A., Domaratskiy I., Kuznetsov A., Lebedev A.A., Lin Z., Maslovsky V.M., Nigel H., Orlikovsky N.A., Shahsenov I.S., Shetinin I., Tikhonenko F., Vasilev A.A., Zarubanov A.A.,  Rudakov V., Амиров И.И., Баширян Б.А., Гаджиева О.А., Грушин Б.А., Дедкова А.А., Дюжев Н.А., Зотович А.И., Зырянов С.М., Иваненко И.П., Киреев В.Ю., Киселев Д.А., Клементе И.Э., Корнев В.К., Кузьменко В.О., Курчиков К.А., Лопаев Д.В., Лубенченко А.В., Лукичев В.Ф., Маслаков К.И., Миннебаев Д.К., Назаров А.В., Рудаков В.И., Симакин С.Г., Усачев Д.Ю., Циняйкин И.И., Чесноков Ю.М., Чесноков Ю.Н., Шиманский В.Н.

48 статей, 10 докладов на конференциях, 13 тезисов докладов, 1 НИР

Количество цитирований статей в журналах по данным Web of Science: 51, Scopus: 77
РИНЦ:

IstinaResearcherID (IRID): 301115263

ResearcherID: B-1357-2016

Scopus Author ID: 57203712756

ORCID: 0000-0002-9547-1619

Деятельность

---

• Статьи в журналах

  • • 2023 Conducting Surface Layers Formed by Hydrogenation of O-Implanted Beta-Ga2O3
    • Polyakov Alexander Y., Vasilev A., Shchemerov I., Chernyk A., Shetinin I., Zhevnerov E.V., Kochkova A.I., Lagov P.B., Miakonkich A.V., Pavlov Yuri, Kobets U.A., Lee In-Hwan, Kuznetsov A., Pearton Stephen
    • в журнале SSRN Electronic Journal, издательство Elsevier B.V. (Netherlands) DOI
  • • 2023 Conducting Surface Layers Formed by Hydrogenation of O-implanted β-Ga2O3
    • Polyakov A.Y., Vasilev A.A., Shchemerov I.V., Chernykh A.V., Shetinin I.V., Zhevnerov E.V., Kochkova A.I., Lagov P.B., Miakonkikh A.V., Pavlov Yu S., Kobets U.A., Lee In-Hwan, Kuznetsov A., Pearton S.J.
    • в журнале Journal of Alloys and Compounds, издательство Elsevier BV (Netherlands), том 945, с. 169258 DOI
  • • 2022 Cobalt subtractive etch for advanced interconnects
    • Rogozhin A., Miakonkikh A., Tatarintsev A., Amirov I., Rudenko K.
    • в журнале Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, издательство SPIE, the International Society for Optical Engineering (Bellingham, WA, United States), № 12157 DOI
  • • 2022 Dielectric permittivity of organosilicate glass thin films on a sapphire substrate determined using time-domain THz and Fourier IR spectroscopy
    • Komandin G.A., Nozdrin V.S., Chernomyrdin N.V., Seregin D.S., Vishnevskiy A.S., Kurlov V.N., Vorotilov K.A., Miakonkikh A.V., Lomov A.A., Rudenko K.V., Spektor I.E.
    • в журнале Journal of Physics D, том 55, № 2 DOI
  • • 2022 Dielectric permittivity of organosilicate glass thin films on a sapphire substrate determined using time-domain THz and Fourier IR spectroscopy
    • Komandin G.A., Nozdrin V.S., Chernomyrdin N.V., Seregin D.S., Vishnevskiy A.S., Kurlov V.N., Vorotilov K.A., Miakonkikh A.V., Lomov A.A., Rudenko K.V., Spektor I.E.
    • в журнале Journal of Physics D, том 55, № 2 DOI
  • • 2022 Investigation of plasma resistance of the HSQ electronic resist for prototyping of nanoelectronic devices
    • Miakonkikh A.V., Shishlyannikov A.V., Tatarintsev A.A., Kuzmenko V.O., Rudenko K.V., Gornev E.S.
    • в журнале Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, издательство SPIE, the International Society for Optical Engineering (Bellingham, WA, United States), № 12157 DOI
  • 
    • 2022 Parallel nanowire sensors with a high-k gate oxide for the sensitive operation in liquids
    • Popov V.P., Tikhonenko F.V., Antonov V.A., Zarubanov A.A., Gluhov A.V., Tatarintsev A.A., Miakonkikh A.V., Rudenko K.V.
    • в журнале Solid-State Electronics, издательство Pergamon Press Ltd. (United Kingdom), том 194 DOI
  • 
    • 2021 Application of the Spectral Ellipsometry Method to Study the Processes of Atomic Layer Deposition
    • Miakonkikh A.V., Smirnova E.A., Clemente I.E.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 50, № 4, с. 230-238 DOI
  • 
    • 2021 Diode‐like current leakage and ferroelectric switching in silicon sis structures with hafnia‐alumina nanolaminates
    • Popov V.P., Tikhonenko F.V., Antonov V.A., Tyschenko I.E., Miakonkikh A.V., Simakin S.G., Rudenko K.V.
    • в журнале Nanomaterials, издательство MDPI (Basel, Switzerland), том 11, № 2, с. 1-14 DOI
  • • 2021 Excitation of localized graphene plasmons by aperiodic self-assembled arrays of metallic antennas
    • Kaydashev V., Khlebtsov B., Miakonkikh A., Zhukova E., Zhukov S., Mylnikov D., Domaratskiy I., Svintsov D.
    • в журнале Nanotechnology, издательство IOP Publishing ([Bristol, UK], England), том 32, № 3 DOI
  • 
    • 2021 Low-Pressure Inductively Coupled CF3Br Plasma Studied by the Langmuir Probe and Optical Emission Spectroscopy Techniques
    • Kuzmenko V.O., Miakonkikh A.V.
    • в журнале Technical Physics Letters, издательство Pleiades Publishing, Ltd (Road Town, United Kingdom), том 47, № 1, с. 99-102 DOI
  • 
    • 2021 Micro-raman characterization of structural features of high-k stack layer of soi nanowire chip, designed to detect circular rna associated with the development of glioma
    • Ivanov Y.D., Malsagova K.A., Popov V.P., Kupriyanov I.N., Pleshakova T.O., Galiullin R.A., Ziborov V.S., Dolgoborodov A.Yu, Petrov O.F., Miakonkikh A.V., Rudenko K.V., Glukhov A.V., Smirnov A.Yu, Usachev D.Yu, Gadzhieva O.A., Bashiryan B.A., Shimansky V.N., Enikeev D.V., Potoldykova N.V., Archakov A.I.
    • в журнале Molecules, издательство MDPI (Basel, Switzerland), том 26, № 12, с. 1-13 DOI
  • 
    • 2021 Numerical Simulation of Cryogenic Etching: Model with Delayed Desorption
    • Rudenko M.K., Myakon’kikh A.V., Lukichev V.F.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 50, № 1, с. 54-62 DOI
  • 
    • 2021 Plasma enhanced atomic layer deposition of ruthenium films using ru(Etcp)2 precursor
    • Rogozhin A., Miakonkikh A., Smirnova E., Lomov A., Simakin S., Rudenko K.
    • в журнале Coatings, издательство MDPI (Basel, Switzerland), том 11, № 2, с. 1-11 DOI
  • • 2021 Robust semiconductor-on-ferroelectric structures with hafnia-zirconia-alumina UTBOX stacks compatible with CMOS technology
    • Popov V.P., Antonov V.A., Tikhonenko F.V., Tarkov S.M., Gutakovskii A.K., Tyschenko I.E., Miakonkikh A.V., Lomov A.A., Rogozhin A.E., Rudenko K.V.
    • в журнале Journal of Physics D, том 54, № 22 DOI
  • 
    • 2021 Study of the Plasma Resistance of a High Resolution e-Beam Resist HSQ for Prototyping Nanoelectronic Devices
    • Miakonkikh A.V., Shishlyannikov A.V., Tatarintsev A.A., Kuzmenko V.O., Rudenko K.V., Gornev E.S.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 50, № 5, с. 297-302 DOI
  • • 2021 Исследование плазмостойкости электронного резиста HSQ высокого разрешения для прототипирования приборов наноэлектроники
    • Мяконьких А.В., Шишлянников А.В., Татаринцев А.А., Кузьменко В.О., Руденко К.В., Горнев Е.С.
    • в журнале Микроэлектроника, издательство Общество с ограниченной ответственностью Интеграция: Образование и Наука (Москва), том 49, № 5 DOI
  • 
    • 2020 Hafnia and alumina stacks as UTBOXs in silicon-on insulator
    • Popov V.P., Antonov V.A., Gutakovskiy A.K., Tyschenko I.E., Vdovin V.I., Miakonkikh A.V., Rudenko K.V.
    • в журнале Solid-State Electronics, издательство Pergamon Press Ltd. (United Kingdom), том 168, с. 107734 DOI
  • 
    • 2020 Influence of the Finite-Size Effect on the Cluster Ion Emission of Silicon Nanostructures
    • Tolstoguzov A.B., Drozdov M.N., Ieshkin A.E., Tatarintsev A.A., Myakonkikh A.V., Belykh S.F., Korobeishchikov N.G., Pelenovich V.O., Fu D.J.
    • в журнале JETP Letters, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 111, № 8, с. 467-471 DOI
  • • 2020 Влияние размерного эффекта на кластерную ионную эмиссию наноструктур кремния
    • Толстогузов А.Б., Дроздов М.Н., Иешкин А.Е., Татаринцев А.А., Мяконьких А.В., Белых С.Ф., Коробейщиков Н.Г., Пеленович В.О., Фу Д.
    • в журнале Письма в "Журнал экспериментальной и теоретической физики", том 111, № 8, с. 531-535 DOI
  • • 2020 ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ ЛИНИЙ В ПОРИСТЫХ ДИЭЛЕКТРИКАХ ДЛЯ СИСТЕМЫ МЕТАЛЛИЗАЦИИ С ПРОЕКТНЫМИ НОРМАМИ 28 НМ И НИЖЕ
    • Орлов А.А., Резванов А.А., Мяконьких А.В.
    • в журнале Наноиндустрия, издательство АО "Рекламно-издательский центр "Техносфера" (Москва), том 96, № 3s, с. 684-687 DOI
  • • 2019 Atomic layer etching of Silicon Oxide
    • Kuzmenko V., Miakonkikh A., Rudenko K.
    • в журнале Journal of Physics: Conference Series, издательство IOP Publishing ([Bristol, UK], England), том 1410, с. 012023
  • 
    • 2019 Fabrication and properties of SOI-based planar silicon nanowire arrays
    • Rogozhin Alexander E., Miakonkikh Andrey V., Tatarintsev Andrey A., Rudenko K.V.
    • в журнале Proc. SPIE, International Conference on Micro- and Nano-Electronics 2018, том 11022, с. 1102222 DOI
  • 
    • 2018 Dependence of the Resistance of the Negative e-Beam Resist HSQ Versus the Dose in the RIE and Wet Etching Processes
    • Miakonkikh A.V., Orlikovskiy N.A., Rogozhin A.E., Tatarintsev A.A., Rudenko K.V.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 47, № 3, с. 157-19 DOI
  • 
    • 2018 Investigation of the Process of Open Plasma-Chemical Etching of HkMG Stack Nanoscale Transistor with a 32-nm Critical Dimension
    • Myakonkikh A.V., Kuvaev K.Yu, Tatarintsev A.A., Orlikovskii N.A., Rudenko K.V., Guschin O.P., Gornev E.S.
    • в журнале Russian Microelectronics, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 47, № 5, с. 325-333 DOI
  • 
    • 2018 Local sensor based on nanowire field effect transistor from inhomogeneously doped silicon on insulator
    • Presnov Denis E., Bozhev Ivan V., Miakonkikh Andrew V., Simakin Sergey G., Trifonov Artem S., Krupenin Vladimir A.
    • в журнале Journal of Applied Physics, издательство AIP Publishing (United States), том 123, № 5, с. 054503 DOI
  • 
    • 2018 Low-k protection from F radicals and VUV photons by multilayer pore grafting approach
    • Zotovich Alexey, Rezvanov Askar, Chanson Romain, Zhang Lin, Hacker Nigel, Kurchikov Konstantin Alekseevich, Klimin Sergey, Zyryanov S.M., Lopaev D., Gornev Evgeny, Clemente Iosif, Miakonkikh Andrew, Maslakov K.I.
    • в журнале Journal of Physics D - Applied Physics, издательство IOP Publishing ([Bristol, UK], England), том 51, № 32, с. 325202 DOI
  • 
    • 2018 Micro-Raman Spectroscopy for Monitoring of Deposition Quality of High-k Stack Protective Layer onto Nanowire FET Chips for Highly Sensitive miRNA Detection
    • Malsagova Kristina, Pleshakova Tatyana, Kozlov Andrey, Shumov Ivan, Ilnitskii Mikhail, Miakonkikh Andrew, Popov Vladimir, Rudenko Konstantin, Glukhov Alexander, Kupriyanov Igor, Ivanova Nina, Rogozhin Alexander, Archakov Alexander, Ivanov Yuri
    • в журнале Biosensors, издательство MDPI (Basel, Switzerland), том 8, № 3, с. 72 DOI
  • 
    • 2018 Microstructure and electrical properties of thin HfO2 deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition
    • Chesnokov Yu M., Miakonkikh A.V., Rogozhin A.E., Rudenko K.V., Vasiliev A.L.
    • в журнале Journal of Materials Science, издательство Springer Nature (Switzerland), том 53, № 10, с. 7214-7223 DOI
  • • 2018 Зависимость стойкости негативного электронного резиста HSQ от дозы облучения в процессе плазмохимического и химического травления
    • Мяконьких А.В., Орликовский Н.А., Рогожин А.Е., Татаринцев А.А., Руденко К.В.
    • в журнале Микроэлектроника, издательство Общество с ограниченной ответственностью Интеграция: Образование и Наука (Москва), том 47, № 3, с. 179-186 DOI
  • • 2018 Исследования воздействия лазерного излучения на параметры пленок оксида алюминия, осаждаемых в процессе атомно-слоевого осаждения
    • Дедкова А.А., Дюжев Н.А., Киреев В.Ю., Клементе И.Э., Мяконьких А.В., Руденко К.В.
    • в журнале Российские нанотехнологии, издательство Парк-медиа (М.), том 13, № 9-10, с. 51-57 DOI
  • 
    • 2017 Cryogenic etching of porous low-k dielectrics in CF3Br and CF4 plasmas
    • Rezvanov Askar, Miakonkikh Andrey V., Vishnevskiy Alexey S., Rudenko Konstantin V., Baklanov Mikhail R.
    • в журнале Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, том 35, № 2, с. 021204 DOI
  • • 2017 Комплементарные исследования внутренних пористых слоев кремния, образованных при высокодозной имплантации ионов гелия
    • Ломов А.А., Мяконьких А.В., Чесноков Ю.Н., Шемухин А.А., Орешко А.П.
    • в журнале Кристаллография, издательство ФГУП Издательство «Наука» (Москва), том 62, № 2, с. 196-201 DOI
  • 
    • 2016 Silicon ohmic lateral-contact MEMS switch for RF applications
    • Rogozhin A., Miakonkikh A., Tatarintsev A., Lebedev K., Kalnov V., Rudenko K., Lukichev V.
    • в журнале Proc. SPIE, International Conference on Micro- and Nano-Electronics 2016, том 10224, с. 1022419-1-1022419-7 DOI
  • • 2016 Исследования процесса аморфизации имплантированных низкоэнергетичными ионами гелия приповерхностных слоев кремния
    • Ломов А.А., Мяконьких А.В., Орешко А.П., Шемухин А.А.
    • в журнале Кристаллография, издательство ФГУП Издательство «Наука» (Москва), том 61, № 2, с. 195-202 DOI
  • 
    • 2014 X-ray reflectometry of the specific features of structural distortions of He+-implanted Si(001) surface layers
    • Lomov A.A., Myakonkikh A.V., Rudenko K.V., Chesnokov Yu M.
    • в журнале Crystallography Reports, издательство Maik Nauka/Interperiodica Publishing (Russian Federation), том 59, № 3, с. 331-337 DOI

• Статьи в сборниках

  • • 2021 Application of Langmuir probe and optical emission spectroscopy for bromofluorocarbon plasma diagnostics
    • Kuzmenko V., Miakonkikh A., Rudenko K.
    • в сборнике Journal of Physics: Conference Series, том 1870 DOI
  • • 2021 Excitation of localized graphene plasmons by using non-periodical self-assembled arrays of metallic antennas
    • Kaydashev V., Khlebtsov B., Miakonkikh A., Zhukov S., Zhukova E., Svintsov D.
    • в сборнике AIP Conference Proceedings, том 2359 DOI
  • • 2021 Excitation of localized graphene plasmons by using non-periodical self-assembled arrays of metallic antennas
    • Kaydashev V., Khlebtsov B., Miakonkikh A., Zhukov S., Zhukova E., Svintsov D.
    • в сборнике AIP Conference Proceedings, том 2359 DOI
  • • 2021 Thermal Stability of Ferroelectricity in Hafnia-Zirconia-Alumina Buried Oxide Stacks
    • Tikhonenko F., Antonov V., Popov V., Miakonkikh A., Rudenko K.
    • в сборнике 2021 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon, EuroSOI-ULIS 2021 DOI
  • • 2020 The effect of plasma immersion ion implantation of Ne+or Ar+or Kr+on the forming voltage of the resistive switching in the structure Ni/Pt/HfO2(10nm)/TaN(5nm)/TiN
    • Permyakova O.O., Miakonkikh A.V., Rudenko K.V., Rogozhin A.E.
    • в сборнике Journal of Physics: Conference Series, том 1695 DOI
  • • 2018 Технологии формирования затворного HkMG-стека с MIPS-структурой для МДП-транзистора с критическими размерами 32/28 нм
    • Мяконьких А.В., Рогожин А.Е., Татаринцев А.А., Руденко К.В., Гущин О.П.
    • в сборнике Труды ФТИАН, издательство Наука (М.), том 28, с. 42-59
  • • 2018 Электронная литография и анизотропное плазмохимическое травление кремниевых FIN-структур для FINFET и SiNW транзисторов с размерами 11-22 нм
    • Мяконьких А.В., Татаринцев А.А., Руденко К.В.
    • в сборнике Труды ФТИАН, издательство Наука (М.), том 28, с. 59-65
  • • 2017 Влияние термического отжига на структуру скрытых слоев кремния с гелиевыми порами-пузырями
    • Ломов А.А., Мяконьких А.В., Чесноков Ю.М., Киселев Д.А., Орешко А.П.
    • в сборнике XXVII международная конференция "Радиационная физика твердого тела", серия Радиационная физика твёрдого тела, место издания ФГБНУ «НИИ ПМТ», с. 78-88
  • • 2015 Исследование Si (001) подложек, подвергнутых плазменно-иммерсионно ионной имплантации He+ методом рентгеновской рефлектометрии
    • Ломов А.А., Мяконьких А.В., Орешко А.П., Шемухин А.А., Назаров А.В.
    • в сборнике Современные методы анализа дифракционных данных и актуальные проблемы рентгеновской оптики, место издания Великий Новгород, с. 135-138
  • • 2014 Carbon and fluorine co-implantation for boron diffusion suppression in extremely ultra shallow junctions
    • Miakonkikh A.V., Rogozhin A.E., Rudakov V.I., Rudenko K.V., Lukichev V.F.
    • в сборнике -, том 9440 DOI
  • • 2014 Monte Carlo simulation of boron doping profile of fin and trench structures by plasma immersion ion implantation
    • Shahsenov I.S., Miakonkikh A.V., Rudenko K.V.
    • в сборнике -, том 9440 DOI
  • • 2012 Instrumented wafer as a Langmuir multiprobe tool for lateral plasma homogeneity measurements in processing plasma reactors
    • Miakonkikh A., Lisovsky S., Rudenko M., Rudenko K.
    • в сборнике -, том 8700 DOI

• Доклады на конференциях

  • • 2021 Electron beam lithography on the surface with 3D relief (Устный)
    • Авторы: Myakonkikh A., Tatarintsev A., Rudenko K.
    • ICMNE-2021, г. Звенигород, РФ, Россия, 4-8 октября 2021
  • • 2021 Investigation of plasma resistance of the HSQ electronic resist for prototyping of nanoelectronic devices (Устный)
    • Авторы: Myakonkikh A., Shishlyannikov A., Tatarintsev A., Kuzmenko V.O., Rudenko K., Gornev E.
    • ICMNE-2021, г. Звенигород, РФ, Россия, 4-8 октября 2021
  • • 2021 Study of silicon carbide surface at different stages of doping by nitrogen atoms (Стендовый)
    • Авторы: Andalashvili M.Z., Presnov D.E., Minnebaev D.K., Rogozin A.E., Miakonkikh A.V., Lubenchenko A.V., Tsiniaikin I.I., Krupenin V.A., Trifonov A.S.
    • ICMNE-2021, г. Звенигород, РФ, Россия, 4-8 октября 2021
  • • 2019 Chlorine-Based Plasma Etch in GaAs Triple-Junction Solar Cells Technology (Стендовый)
    • Авторы: Lagov P.B., Maslovsky V.M., Miakonkikh A.V., Pavlov Yu S., Lebedev A.A.
    • 11th International Conference New Electrical and Electronic Technologies and their Industrial Implementation (NEET 2019), Zakopane, Польша, 25-28 июня 2019
  • • 2018 E-beam lithography of dense 10 nm line/space pattern using the HSQ mask (Устный)
    • Авторы: Tatarintsev A.A., Miakonkikh A.V., Rudenko K.V., Shishlyannikov A.
    • International Conference "Micro- and Nanoelectronics — 2018" (ICMNE-2018), Звенигород, Московская область, Россия, 1-5 октября 2018
  • • 2017 Влияние термического отжига на структуру скрытых слоев кремния с гелиевыми порами-пузырями (Устный)
    • Авторы: Ломов А.А., Мяконьких А.В., Чесноков Ю.М., Киселев Д.А., Орешко А.П.
    • XXVII международная конференция "Радиационная физика твердого тела", Севастополь, Россия, 10 июля - 15 августа 2017
  • • 2015 Полевой транзистор с каналом-нанопроводом как локальный сенсор с высоким пространственным разрешением (Устный)
    • Авторы: Крупенин В.А., Божьев И.В., Преснов Д.Е., Мяконьких А.В., Рудаков В.И.
    • Семнадцатая всероссийская молодежная конференция по физике полупроводников и наноструктур, полупроводниковой опто- и наноэлектронике, Санкт-Петербург, 23 ноября - 27 ноября 2015 г., Санкт-Петербург, Россия, 23-27 ноября 2015
  • • 2015 Исследование Si (001) подложек, подвергнутых плазменно-иммерсионно ионной имплантации He+ методом рентгеновской рефлектометрии (Устный)
    • Авторы: Ломов А.А., Мяконьких А.В., Назаров А.В., Шемухин А.А., Орешко А.П.
    • Седьмой международный научный семинар и Пятая международная научная школа-семинар "Современные методы анализа дифракционных данных и актуальные проблемы рентгеновской оптики", Великий Новгород, 24-29 августа 2015 г., Великий Новгород, судно «Господин Великий Новгород», Россия, 24-29 августа 2015
  • • 2015 Исследование состава тонких диэлектрических слоев с помощью ионно-пучковых технологий (Стендовый)
    • Авторы: Рогожин А.Е., Руденко К.В., Мяконьких А.В., Черныш В.С., Шемухин А.А., Балакшин Ю.В., Рудаков В.И.
    • XLV Международная Тулиновская конференция по физике взаимодействия заряженных частиц с кристаллами, Москва, Россия, 26-30 мая 2015
  • • 2014 Non-uniformly doped SOI based FETransistor with nanowire channel (Стендовый)
    • Авторы: Presnov D., Miakonkikh A., Krupenin V., Rudakov V., Trifonov A., Bozhjev I.
    • International conference «Micro- and Nanoelectronics - 2014» (ICMNE-2014), Moscow-Zvenigirod, Russia, Россия, 2014

• Тезисы докладов

  • • 2021 Electron beam lithography on the surface with 3D relief
    • Myakonkikh A., Tatarintsev A., Rudenko K.
    • в сборнике Proceedings of International Confernce "Micro- and Nanoelectronics - 2021" (ICMNE-2021): Book of abstracts, издательство ООО "МАКС Пресс" (Москва), тезисы, с. O1-08
    • редакторы Лукичев Владимир Федорович, Руденко Константин Васильевич
  • • 2021 Investigation of plasma resistance of the HSQ electronic resist for prototyping of nanoelectronic devices
    • Myakonkikh A., Shishlyannikov A., Tatarintsev A., Kuzmenko V., Rudenko K., Gornev E.
    • в сборнике Proceedings of International Confernce "Micro- and Nanoelectronics - 2021" (ICMNE-2021): Book of abstracts, издательство ООО "МАКС Пресс" (Москва), тезисы, с. O1-07
    • редакторы Лукичев Владимир Федорович, Руденко Константин Васильевич
  • 
    • 2021 Study of silicon carbide surface at different stages of doping by nitrogen atoms
    • Andalashvili M.Z., Presnov D.E., Minnebaev D.K., Rogozin A.E., Miakonkikh A.V., Lubenchenko A.V., Tsiniaikin I.I., Krupenin V.A., Trifonov A.S.
    • в сборнике Proceedings of International Confernce "Micro- and Nanoelectronics - 2021" (ICMNE-2021): Book of abstracts, издательство ООО "МАКС Пресс" (Москва), тезисы, с. P2-05-167 DOI
    • редакторы Лукичев Владимир Федорович, Руденко Константин Васильевич
  • • 2019 Chlorine-Based Plasma Etch in GaAs Triple-Junction Solar Cells Technology
    • Lagov P.B., Maslovsky V.M., Miakonkikh A.V., Pavlov Yu S., Lebedev A.A.
    • в сборнике 11th International Conference New Electrical and Electronic Technologies and their Industrial Implementation (NEET 2019), место издания Lublin University of Technology, Lublin, Poland, тезисы
  • • 2018 E-beam lithography of dense 10 nm line/space pattern using the HSQ mask
    • Tatarintsev A.A., Miakonkikh A.V., Rudenko K.V., Shishlyannikov A.
    • в сборнике Proceedings of the Inernational Conference "Micro- and Nanoelectronics - 2018", место издания Maks press Moscow, тезисы, с. 48-48
  • • 2018 Fabrication and properties of SOI-based planar silicon nanowire arrays
    • Rogozhin A., Miakonkikh A., Tatarintsev A.A., Rudenko K.V.
    • в сборнике Proceedings of the Inernational Conference "Micro- and Nanoelectronics - 2018", место издания Maks press Moscow, тезисы, с. 196-196
  • • 2017 Deep Silicon etching in cryo process for TSV 3D integration
    • Miakonkikh A.V., Rogozhin A.E., Tatarintsev A.A., Gushin O.P., Rudenko K.V., Lukichev V.F.
    • в сборнике Materials for advanced metallisation International workshop, Dresden, Germany, March 26-29, 2017, тезисы
  • • 2016 Etching/oxidation technology for sub-30nm Silicon nanowire array manifacturing
    • Miakonkikh A., Tatarintsev A.А., Rogozhin A., Rudenko K., Orlikovsky A.
    • в сборнике Book of abstract PESM 2016, May 9-10, Grenoble, France, тезисы, с. P08
  • • 2016 Silicon ohmic lateral-contact MEMS switch for RF applications
    • Rogozhin A., Miakonkikh A., Tatarintsev A., Lebedev K., Kalnov V., Rudenko K., Lukichev V.
    • в сборнике International Conference “Micro- and nanoelectronics – 2016”, тезисы, с. 156
  • • 2016 Technology for fabrication of sub-20 nm silicon planar nanowires array
    • Miakonkikh A., Tatarintsev A., Rogozhin A., Rudenko K.
    • в сборнике International Conference “Micro- and nanoelectronics – 2016”, тезисы, с. 136
  • • 2015 Полевой транзистор с каналом-нанопроводом как локальный сенсор с высоким пространственным разрешением
    • Божьев И.В., Крупенин В.А., Преснов Д.Е., Мяконьких А.В., Рудаков В.И.
    • в сборнике Тезисы докладов 17-й всероссийской молодежной конференции, серия Физика полупроводников и наностурктур, полупроводниковая опто- и наноэлектроника, место издания Издательство Политехнического университета Санкт-Петербург, тезисы, с. 108
  • • 2014 Impact of structural changes in e-beam negative resist hydrogen silsesquioxane (HSQ) to ecth-resistance at different doses of exposure
    • Ivanenko I.P., Kalnov V.A., Miakonkikh A.V., Orlikovsky N.A., Tatarintsev A.A.
    • в сборнике International Conference "Micro- and Nanoelectronics - 2014". Book of abstracts, место издания Moscow-Zvenigorod, Russia, тезисы, с. O1-13
  • • 2014 Non-uniformly doped SOI based FETransistor with nanowire channel
    • Presnov D., Miakonkikh A., Bozhjev I., Rudakov V., Trifonov A., Krupenin V.
    • в сборнике Intenational Conference "Micro- and Nanoelectronics - 2014", ICMNE 2014, October 6-10, “Ershovo” resort, Moscow - Zvenigorod, Russia, Book of Abstracts,, место издания Institute of Physics and Technology of the RAS,, тезисы, с. P1-33

• НИРы

  • • 1 мая 2016 - 31 декабря 2018 Создание источников и приемников терагерцового излучения на основе низкоразмерных пролетных диодов для контроля объектов
    • Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технологический институт Российской академии наук
    • Руководитель: Руденко К.В. Участники НИР: Вьюрков В.В., Давыдов Ф.С., Мяконьких А.В., Орликовский Н.А., Рогожин А.Е., Руденко К.В., Руденко М.К., Солянкин П.М.

---