![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Пучки ускоренных газовых кластерных ионов в последние 25 лет стали широко использоваться в различных областях науки и технологии. Среди применений кластерных ионов можно выделить следующие: сверхтонкую полировка поверхности материалов для опто- и микроэлектроники, имплантация на сверхмалые глубины, обработка поверхности биомедицинских изделий, вторичная ионная масс-спектрометрия. Очевидно, что механизмы взаимодействия кластерного иона с поверхностью твёрдого тела значительно отличаются от случая атомарных ионов. Стоит отметить, не все аспекты взаимодействия кластерных ионов с твердым телом хорошо изучены на данный момент. Одной из важнейших характеристик этого процесса является угловое распределения частиц, распылённых пучком кластерных ионов. Экспериментально установлено что свойства материала мишени оказывают сильное влияние на характер угловых распределений распыленных частиц. Однако это влияние должным образом не объяснено. В работе будет проведено моделирование распыления различных металлов кластерами инертного газа методом молекулярной динамики. Будут выявлены механизмы взаимодействия кластера с поверхностью, ведущие к формированию угловых распределений распылённых атомов.
In recent 25 years gas cluster ion beam (GCIB) is widely used in different areas of science and technology. One can note such applications as surface smoothing for opto- and microelectronics, shallow ion implantation, biomedical item's surface processing, secondary ion mass spectrometry. The interaction of cluster ion with solid surface differs significantly from the case of monomer ions. The interaction mechanisms are not studied well enough at the moment. An important property of such process is the angular distribution of sputtered atoms. It is experimentally found that the target material properties affect these distributions, but this effect has not been properly explained yet. In this project the molecular dynamics simulations of sputtering of different materials by GCIB will be performed. The fundamental mechanisms of cluster-surface interaction that play role in sputtered atoms angular distribution formation.
грант РФФИ |
# | Сроки | Название |
1 | 19 марта 2018 г.-31 декабря 2018 г. | Исследование угловых распределений атомов, распылённых газовыми кластерными ионами |
Результаты этапа: | ||
2 | 19 марта 2019 г.-31 декабря 2019 г. | Исследование угловых распределений атомов, распылённых газовыми кластерными ионами |
Результаты этапа: |
Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".