ИСТИНА

Цели: Целью данного проекта является контролируемое создание базовой периодической наноструктуры на стеклянной подложке, для изготовления новых наноматериалов на ее основе. Будет использоваться слой требуемого материала на поверхности стекла и верхний слой, представляющий собой периодическую наноструктуру-маску из фоторезиста. Данная маска из фоторезиста будет выполняться методом ультрафиолетовой лазерной интерференционной литографии. Данные базовые структуры будут ориентированы, в том числе, на создание решетчатых металлических прозрачных электродов с высокой проводимостью, получения супергидрофобных структур на поверхности стекла, а также поглощающих и просветляющих покрытий стекла. Наработки: На настоящий момент имеется разработанная и созданная лабораторией установка для лазерной интерференционной литографии на основе интерферометра Ллойда, позволяющая изготавливать образцы на площади более, чем 12х12 мм с контролируемым периодом. С помощью установки получены образцы решеток с линейной, квадратной и гексагональной упорядоченностью. Решетки из фоторезиста были использованы для изготовления наноструктурированных образцов, в том числе плазмонных кристаллов, с напылением слоев металла на поверхность фоторезиста с периодами от 400 до 2500 нм.

— Образец периодической маски из фоторезиста с квадратным упорядочением с периодом структуры 250-300 нм с открытыми участками поверхности, на которую нанесен фоторезист, в отверстиях маски. — Отчет о проведенных исследованиях и результатах независимых испытаний. — Заявка на патент РФ на изобретение в области лазерной интерференционной литографии. Ключевая часть настоящей разработки — создание маски из фоторезиста методом интерференционной лазерной литографии.