![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
разработка конструктивных решений составных элементов и системы оптического контроля плазмы разряда экспериментального и опытного образца реактора, оказывающих ключевое влияние на однородность ПХТ высокоаспектных диэлектрических структур на пластинах диаметром до 300 мм в микроэлектронном производстве уровня 65 нм.
У научного коллектива имеется большой задел по экспериментальному и теоретическому исследованию газовых разрядов (высокочастотных, в том числе импульсных, постоянного тока, несамостоятельных), диагностике плазмы и изучению взаимодействия плазмы с поверхностью. Участниками коллектива были изучены неравновесные процессы, протекающие в стационарных и нестацио-нарных разрядах постоянного тока, ВЧ и микроволновых разрядов в различных газовых смесях, а также струк-туры этих разрядов.
Хоздоговор, . |
# | Сроки | Название |
1 | 22 апреля 2022 г.-30 августа 2022 г. | Математическое моделирование распределения параметров плазмы, оптимизация конструкции и разработка системы оптического контроля плазмы разряда экспериментального и опытного образца реактора для проведения технологических процессов плазмохимического травления (ПХТ) высокоаспектных диэлектрических структур на пластинах диаметром до 300 мм в микроэлектронном производстве уровня 65 нм |
Результаты этапа: | ||
2 | 1 декабря 2022 г.-30 сентября 2024 г. | Математическое моделирование распределения параметров плазмы, оптимизация конструкции и разработка системы оптического контроля плазмы разряда экспериментального и опытного образца реактора для проведения технологических процессов плазмохимического травления (ПХТ) высокоаспектных диэлектрических структур на пластинах диаметром до 300 мм в микроэлектронном производстве уровня 65 нм |
Результаты этапа: |
Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".