|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Исследование и разработка процессов формирования фазовых дифракционных оптических элементов видимого диапазона методами электронно-лучевой литографии на слоях позитивных резистовНИР
- Руководитель НИР: Васильев А.Н.
- Участники НИР: Попов В.В.
- Подразделение: Научно-исследовательский институт ядерной физики имени Д.В. Скобельцына
- Срок исполнения: 1 января 2013 г. - 31 марта 2014 г.
- Номер договора (контракта, соглашения): 3-12
- Номер ЦИТИС: 01201350109
- Тип: Фундаментальная
- Приоритетное направление научных исследований: Взаимодействие излучения с веществом
- ПН России: Информационно-телекоммуникационные системы
- Направление технологического прорыва России: Энергоэффективность и энергосбережение
-
Рубрики ГРНТИ:
- 29.31.29 Формирование оптического изображения. Оптические приборы и оптические методы измерений
-
Ключевые слова:
микролитография, микроструктуры, компьютерная оптика, голография
-
Описание:
Исследование и разработка процессов формирования фазовых дифракционных оптических элементов видимого диапазона методами электронно-лучевой литографии на слоях позитивных резистов
-
Основные результаты:
1. Рассчитаны и изготовлены многоградационные дифракционные элементы с 5 уровнями градаций рельефа для монохроматического излучения с длиной волны 530 нм, работающие на прохождение, c характерной высотой рельефа 1.0-1.1 мкм. Эти элементы формировали изображения в виде цифровых символов. Угловой размер символов составляет 1 градус, угол отклонения от оптической оси 10 градусов. Дифракционная эффективность составляет не менее 60 %. Изготовлены микрорельефные структуры с высотой рельефа 200 нм для отражающих оптических элементов. 2. Исследования работы изготовленных оптических элементов показали, что размер поля, задаваемый для электростатической системы отклонения электронно-лучевого литографа, оказывает существенное влияние на формирование паразитных дифракционных порядков. Установлено, что неравномерность интенсивности в штампах шириной 200 нм приводит к неоднородности высоты рельефа по длине штампа в 25-30 %.
- Добавил в систему: Васильев Андрей Николаевич
Источник финансирования НИР
| Хоздоговор, Средства заказчика |
Этапы НИР
| # | Сроки | Название |
| 1 | 1 января 2013 г.-31 декабря 2013 г. | Исследование и разработка процессов формирования фазовых дифракционных оптических элементов видимого диапазона методами электронно-лучевой литографии на слоях позитивных резистов |
| Результаты этапа: | ||
| 2 | 1 января 2014 г.-31 марта 2014 г. | Исследование и разработка процессов формирования фазовых дифракционных оптических элементов видимого диапазона методами электронно-лучевой литографии на слоях позитивных резистов |
| Результаты этапа: 1. Рассчитаны и изготовлены многоградационные дифракционные элементы с 5 уровнями градаций рельефа для монохроматического излучения с длиной волны 530 нм, работающие на прохождение, c характерной высотой рельефа 1.0-1.1 мкм. Эти элементы формировали изображения в виде цифровых символов. Угловой размер символов составляет 1 градус, угол отклонения от оптической оси 10 градусов. Дифракционная эффективность составляет не менее 60 %. Изготовлены микрорельефные структуры с высотой рельефа 200 нм для отражающих оптических элементов. 2. Исследования работы изготовленных оптических элементов показали, что размер поля, задаваемый для электростатической системы отклонения электронно-лучевого литографа, оказывает существенное влияние на формирование паразитных дифракционных порядков. Установлено, что неравномерность интенсивности в штампах шириной 200 нм приводит к неоднородности высоты рельефа по длине штампа в 25-30 %. | ||
Прикрепленные к НИР результаты
Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".