|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Plasma chemical etching of high-aspect-ratio silicon micro- and nanostructuresстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 10 августа 2018 г.
- Автор: Amirov I.I.
- Журнал: Russian Journal of General Chemistry
- Том: 85
- Номер: 5
- Год издания: 2015
- Издательство: Maik Nauka/Interperiodica Publishing
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 1252
- Последняя страница: 1259
- DOI: 10.1134/s1070363215050424
- Добавил в систему: Зотович Алексей Иванович