Аннотация:Рассмотрены процессы осаждения и химических превращений углеводородных радикалов в движущейся водород/углеводородной смеси {СxНy/Н2 (x = 12, y = 26)} при средних числах Кнудсена (Кn 0.1). Источником углеводородных радикалов являлся разряд постоянного тока в смеси метан/водород в отношении 1:5 на входе в кварцевую трубу при давлении 820 Па и температуре 300 К. Радикалы переносились ламинарным газовым потоком в область послесвечения, в которой размещалась полая вольфрамовая вставка. При движении сквозь вставку радикалы осаждались на стенках, кремниевых и вольфрамовых образцах, формируя аморфные углеводородные а-С:Н пленки, вероятнее всего из винила и метила. При повышении температуры вольфрамовой вставки до 380 К осаждение углерода на поверхности материалов полностью подавлялось. В течение нескольких часов экспозиции поверхности образцов оставались неизменными, в некотором стационарном состоянии. Стабилизированная поверхность вольфрама при температурах 380480 К содержала только несколько атомных слоев внедренного в металл углерода (карбидизированная поверхность). На карбидизированной поверхности большая часть радикалов, ранее (при 300340 К) расходовавшаяся на формирование а-С:Н пленки, превращалась в химически неактивные углеводородные молекулы: метан (СН4), этан (С2Н6), ацетилен (С2Н2). Кроме процесса образования молекул, около 0.010.1 доли первичных радикалов превращалась в новые радикалы, способные к конденсации при температурах ниже 350 К.