Аннотация:После открытия графена в 2004 г. появилось множество публикаций, посвященных его уни‑кальным механическим и электрическим свой‑ствам, а также возможности использования его в электронике, оптоэлектронике, производстве сенсоров, биоматериалов и новых каталитических систем [1–11]. Вместе с тем оказалось, что наибо‑лее оптимальным способом формирования пленок графена для прикладных целей является нанесение и последующее восстановление их из пленок ок‑сида графена (ОГ), обладающих достаточно вы‑сокой адгезией и хорошими пленкообразующими свойствами, т. е. более практичными в обращении. В связи с этим, для восстановления пленок окси‑да графена были разработаны химические спосо‑бы с использованием гидразина, водорода и других химических восстановителей [2, 11], электрохими‑ческие [6] и термические методы (нагрев в вакууме или в атмосфере инертных газов)[5, 9]. В большин‑стве случаев при таких способах восстановления происходят нежелательные изменения химическо‑го состава графена или частичная деструкция его структуры. Было показано также, что оксид гра‑фена можно восстанавливать фотохимически, ис‑пользуя ультрафиолетовое или видимое излучение [12, 13–18]. Авторы [13, 14] исследовали процессы фотовосстановления ОГ в зависимости от дозы и длины волны под действием вакуумного ультра‑фиолетового излучения и мягкого рентгеновского излучения синхротрона в диапазоне 17–900 эВ. Ис‑следование изменений состава и структуры ОГ при воздействии широкополосного …