Short-circuited double Langmuir probe as a model of a conducting wafer under plasma processingстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 6 мая 2016 г.