|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
E-beam lithography of dense 10 nm line/space pattern using the HSQ maskтезисы доклада
- Авторы: Tatarintsev A.A., Miakonkikh A.V., Rudenko K.V., Shishlyannikov A.
- Сборник: Proceedings of the Inernational Conference "Micro- and Nanoelectronics - 2018"
- Тезисы
- Год издания: 2018
- Место издания: Maks press Moscow
- Первая страница: 48
- Последняя страница: 48
- Добавил в систему: Татаринцев Андрей Андреевич