|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Comparative study of the dependence of line edge roughness of resists patterns on its molecular structureтезисы доклада
- Авторы: Sharapov A., Baranov G., Shishlyannikov A., Tatarintsev A.A., Gushin O., Rudenko K.V.
- Сборник: Proceedings of the Inernational Conference "Micro- and Nanoelectronics - 2018"
- Тезисы
- Год издания: 2018
- Место издания: Maks press Moscow
- Первая страница: 178
- Последняя страница: 178
- Добавил в систему: Татаринцев Андрей Андреевич