ПЛОТНОСТЬ ДИСЛОКАЦИЙ В ПЛЕНКАХ PBTE, ВЫРАЩЕННЫХ НА ПОДЛОЖКАХ SI (100) И BAF 2 (100) МОДИФИЦИРОВАННЫМ МЕТОДОМ "ГОРЯЧЕЙ СТЕНКИ"статья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 3 ноября 2021 г.
Аннотация:Цель работы заключается в сравнительном изучении влияния степени структурного совершенства подложек Si (100) и BaF 2 (100) и качества их предэпитаксиальной подготовки на величину скалярной плотности дислокаций в пленках PbTe, синтезированных модифицированным методом «горячей стенки» при одинаковых технологических режимах. Установлено, что величина плотности дислокаций зависит, главным образом, от степени структурного совершенства кристаллической структуры подложки и от величины несоответствия периодов идентичности. Качество предэпитаксиальной подготовки влияет на величину плотности дислокаций только для подложек из одного и того же материала. Выдвинуто предположение относительно механизмов роста пленок PbTe на подложках Si (100) и BaF 2 (100).