|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
On the polarization-sensitive four-wave mixing as a method for in situ morphology diagnostics of nanocrystal materialsстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.
- Авторы: Golovan L.A., Ferrante G., Kashkarov P.K., Haus J.W., Timoshenko V.Y., Zheltikov A.M.
- Журнал: Laser Physics
- Том: 11
- Номер: 12
- Год издания: 2001
- Издательство: IOP Publishing
- Местоположение издательства: [Bristol, UK], England
- Первая страница: 1292
- Последняя страница: 1297
- Аннотация: Nonlinear-optical processes are shown to be sensitive to changes in the point-group symmetry of materials caused by nanostructuring. The properties of the cubic susceptibility tensor responsible for the four-wave mixing process are examined in the case of nanoporous silicon, which is considered as an example of a nanocrystal material with a modified point-group symmetry. This analysis demonstrates that polarization-sensitive four-wave mixing can be employed for in situ morphology diagnostics of materials during nanostructuring and nanofabrication.
- Добавил в систему: Тимошенко Виктор Юрьевич