|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Understanding the interaction mechanisms between amorphous carbon sacrificial patterning material and H2 plasma to enable area-selective ALD processesтезисы доклада
- Авторы: Zyulkov I., Voronina E.N., Chan BT, Mankelevich Yu A., Rakhimova T.V., De Gendt S., Armini S.
- Сборник: Book of Asbtract "Plasma Etch and Strip for Microtechnology workshop (PESM 2019)"
- Тезисы
- Год издания: 2019
- Место издания: Grenoble
- Добавил в систему: Воронина Екатерина Николаевна