Численное исследование влияния проницаемого экрана на устойчивость слоя смешения конечной толщины

Пастушков, П.П.

Автор: Пастушков П.П.
Сборник: Труды конференции-конкурса молодых ученых НИИ механики МГУ имени М.В. Ломоносова
Том: 1
Год издания: 2010
Место издания: Издательство Московского Университета Москва
Первая страница: 256
Последняя страница: 261
Аннотация: Исследуется устойчивость бесконечного плоского вихревого слоя конечной толщины с однородным начальным распределением завихренности в идеальной несжимаемой жидкости в присутствии параллельного проницаемого экрана, расположенного за пределами слоя. Анализируется эволюция начальных двумерных синусоидальных возмущений формы слоя с учетом влияния проницаемого экрана. Численное моделирование нестационарного процесса развития линейных и нелинейных возмущений осуществляется методом дискретных вихрей. Выполнено детальное исследование поведения вихревого слоя в зависимости от относительной длины волны и амплитуды начального возмущения, расстояния до экрана и степени его проницаемости. Рассмотрены также методические вопросы влияния уровня дискретизации при численном моделировании слоя кратными вихревыми цепочками. На стадии квазилинейного развития возмущений определены границы устойчивости слоя и определены декременты роста возмущений в неустойчивой области. Показана способность проницаемого экрана увеличивать область устойчивости слоя и снижать максимальный декремент нарастания возмущений в неустойчивой области в зависимости от коэффициента проницаемости и расстояния до слоя при различной его толщине.
Добавил в систему: Пастушков Павел Павлович

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ИПМех РАН
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ИПМех РАН

Численное исследование влияния проницаемого экрана на устойчивость слоя смешения конечной толщиныстатья

Прикрепленные файлы