Hierarchical Manipulation of Block Copolymer Patterns on 3D Topographic Substrates: Beyond Graphoepitaxyстатья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 16 ноября 2017 г.
Аннотация:Templates of complex nanopatterns in a form of hierarchically sequenced dots and stripes can be generated in block copolymer films on lithography-free 3D topographic substrates. The approach exploits thickness- and swelling-responsive morphological behavior of block copolymers, and demonstrates novel possibilities of topography-guided registration of nanopatterns due to periodic confinement and spontaneous orthogonal flow-fields.