Нанотехнология для наноэлектроники: формирование нанозазора в металлическом нанопроводе сфокусированным ионным пучкомстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 января 2020 г.
Аннотация:В статье предложен и реализован способ формирования нанозазора в узком тонкопленочном нанопроводе из металла по безмасочной технологии с использованием сфокусированного ионного пучка. Показано, что в одном технологическом цикле по безмасочной технологии можно формировать нанозазоры шириной около 30 нм.
Показано, что использование FIB-технологии позволяет получать необходимые геометрические параметры наноэлектродов, приемлемые для дальнейшего применения в планарной технологии по формированию системы «нависающих» электродов в туннельных наноструктурах.