|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Correlation between plasma glow intensity distribution and sputtering profile in dc magnetron dischargeстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 февраля 2020 г.
- Авторы: Pal A.F., Ryabinkin A.N., Serov A.O.
- Журнал: Journal of Physics: Conference Series
- Том: 1147
- Номер: 1
- Год издания: 2019
- Издательство: IOP Publishing
- Местоположение издательства: [Bristol, UK], England
- Первая страница: 012115
- DOI: 10.1088/1742-6596/1147/1/012115
- Аннотация: The correlation between the plasma glow intensity distribution and the target sputtering profile in an axially symmetric unbalanced dc magnetron discharge with copper cathode in argon is studied. At high pressures the argon atom and ion emission intensities are in good agreement with a sputtering profile. In case of low pressures, a satisfactory agreement is only for the ion emission. The best estimates of the sputtering profile can be obtained from the argon ion emission distribution at not too low pressures.
- Добавил в систему: Рябинкин Алексей Николаевич