|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Effect of Low-Energy Ion-Plasma Treatment on Residual Stresses in Thin Chromium Filmsстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus,
Web of Science
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 27 сентября 2019 г.
- Авторы: Babushkin A.S., Uvarov I.V., Amirov I.I.
- Журнал: Technical Physics
- Том: 63
- Номер: 12
- Год издания: 2018
- Издательство: Maik Nauka/Interperiodica Publishing
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 1800
- Последняя страница: 1807
- Добавил в систему: Воронина Екатерина Николаевна