Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Influence of systematic errors in spectral photometric measurements on the determination of optical thin film parameters
тезисы доклада
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 мая 2015 г.
Авторы:
Tikhonravov A.V.
,
Trubetskov M.K.
,
Kokarev M.A.
,
Amotchkina T.V.
Сборник:
Optical Interference Coatings, OSA Technical Digest (Optical Society of America)
Тезисы
Год издания:
2001
Место издания:
Washington DC
Первая страница:
TuD2-1
Последняя страница:
TuD2-3
Аннотация:
Results of the optical characterization of dielectric thin films depend on the quality of experimental data. This work investigates the iinfluence of systematic errors in measurement data on the determination of thin film parameters.
Добавил в систему:
Тихонравов Александр Владимирович