|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
The Effect of the Ion Assistance Energy on the Electrical Resistivity of Carbon Films Prepared by Pulsed Plasma Deposition in a Nitrogen Atmosphereстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 12 января 2022 г.
- Авторы: Zavidovskii I.A., Streletskii O.A., Nishchak O.Yu, Khaidarov A.A.
- Журнал: Physics of the Solid State
- Том: 61
- Номер: 11
- Год издания: 2019
- Издательство: Pleiades Publishing, Ltd
- Местоположение издательства: Road Town, United Kingdom
- Первая страница: 2228
- Последняя страница: 2232
- DOI: 10.1134/S1063783419110428
- Аннотация: Thin carbon films prepared by pulsed plasma ion-assisted deposition of graphite in an atmosphere of a mixture of argon and nitrogen are studied. The results of characteristic electron energy loss spectroscopy and electron diffraction indicate the increase in the graphite component with increasing ion assistance energy. The use of ion assistance during the film deposition makes it possible to control their resistivity by changing it from 10^5 to 10^2 Ω*cm.
- Добавил в систему: Завидовский Илья Алексеевич