|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
The Effect of He Plasma Treatment on Properties of Organosilicate Glass Low-K Filmsстатья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.
- Авторы: Braginsky O.V., Kovalev A.S., Lopaev D.V., Malykhin E.M., Mankelevich Yu A., Proshina O.V., Rakhimova T.V., Rakhimov A.T., Voloshin D.G., Vasilieva A.N., Zyryanov S.M., Smirnov E.A., Baklanov M.R.
- Журнал: Journal of Applied Physics
- Том: 109
- Номер: 4
- Год издания: 2011
- Издательство: AIP Publishing
- Местоположение издательства: United States
- Первая страница: 043303
- DOI: 10.1063/1.3549733
- Добавил в систему: Лопаев Дмитрий Викторович