|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
The effect of gas pressure during ion-plasma deposition on the microstructure of M-coatings and the emission properties of molecular sputter-deposited oxide cathodesстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 ноября 2021 г.
- Авторы: Zhabin G., Arkhipov D.
- Журнал: ITM Web of Conferences
- Том: 30
- Год издания: 2019
- Первая страница: 02006
- DOI: 10.1051/itmconf/20193002006
- Аннотация: The results of the study of the effect of gas pressure and gas composition bу ion-plasma deposition of oxide coatings on the microstructure and the emission properties of molecular sputter-deposited oxide cathodes (MSDOC) are presented. Scanning electron microscopy (SEM) with an energy-dispersive spectrometer (EDS) and atomic force microscopy (AFM) has been used to investigate changes in the morphology, microstructure, and elemental composition of the films. It is shown that with decreasing pressure, the emission properties of films improve, the coating density and grain size increase, and the roughness decreases.
- Добавил в систему: Жабин Г.А.
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|---|---|---|---|---|
| 1. | itmconf_crimico2019_02006_1.pdf | itmconf_crimico2019_02006_1.pdf | 1,6 МБ | 6 июня 2020 [ZhabinGA] | |
| 2. | itmconf_crimico2019_02006_3.pdf | itmconf_crimico2019_02006_3.pdf | 1,6 МБ | 1 января 2021 [ZhabinGA] |