|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Electrochemical Local Maskless Micro/Nanoscale Deposition,Dissolution, and Oxidation of Metals and Semiconductors (A Review)статья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 4 мая 2020 г.
- Авторы: Davydov A.D., Volgin V.M.
- Журнал: Russian Journal of Electrochemistry
- Том: 56
- Номер: 1
- Год издания: 2020
- Издательство: Maik Nauka/Interperiodica Publishing
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 52
- Последняя страница: 81
- Оригинальные версии: Электрохимическое локальное безмасковое микро/нано размерное осаждение, растворение и оксидирование металлов и полупроводников (обзор)
- DOI: 10.1134/S1023193520010036
- Аннотация: The review is devoted to the modern methods of local maskless electrochemical machining of metalsand semiconductors with the aim of formation of individual islands or cavities, their groups, and patternsaccording to a given program, or 3D micro/nanostructures, for example, metal threads and various threadstructures. For this purpose, various methods of localizing the electrochemical deposition, dissolution, oroxidation are used.
- Добавил в систему: Давыдов Алексей Дмитриевич