|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Electron field emission from nano-crystalline Si films deposited by inductively coupled plasma CVD at room temperatureстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.
- Авторы: He D.Y., Wang X.Q., Chen Q., Li J.S., Yin M., Karabutov A.V., Kazanskii A.G.
- Журнал: Chinese Science Bulletin
- Том: 51
- Номер: 5
- Год издания: 2006
- Издательство: Zhongguo Kexue Zazhishe/Science in China Press
- Местоположение издательства: China
- Первая страница: 510
- Последняя страница: 514
- DOI: 10.1007/s11434-005-0510-5
- Добавил в систему: Казанский Андрей Георгиевич