|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Физические механизмы распыления мишеней из SiO2 ускоренными ионами фуллерена C60статья
- Авторы: Малеев М.В., Зубарев Е.Н., Пуха В.Е., Дроздов А.Н., Вус А.С.
- Журнал: Металлофизика и новейшие технологии
- Том: 37
- Номер: 6
- Год издания: 2015
- Первая страница: 775
- Последняя страница: 788
- Аннотация: Исследованы физические закономерности и механизмы роста углеродных плёнок и эрозии поверхности при облучении мишеней из кварца (SiO2)пучком ускоренных ионов С60 с энергией в интервале 2,5—10 кэВ при тем пературе мишени 373 К. Установлено, что рост углеродных плёнок на поверхности облучаемых мишеней из SiO2 наблюдается в интервале энергий ионов 2,5—3,75 кэВ. При этом скорость осаждения углерода имитирует ся процессом эрозии поверхности роста, интенсивность которого зависит от энергии ионов. При энергии ионов выше верхних значений указанных интервалов плёнка на поверхности не формируется и наблюдается эрозия материала мишени. Показана возможность удаления аморфного оксида с поверхности Si подложки и формирование на ней эпитаксиального карбида кремния.
- Добавил в систему: Пуха Владимир Егорович