Аннотация:В Институте ИПМех РАН работают два индукционных ВЧ-плазмотрона: ВГУ–4 (мощность до 100 кВт) и ВГУ–3 (мощность до 1000 кВт). На этих установках проводятся экспериментальные исследования теплообмена и термохимической стойкости образцов материалов в высокоэнтальпийных струях газов, истекающих из разрядного канала. У плазмотрона ВГУ–4 канал относительно тонкий, поэтому для расчета вихревого электрического поля можно использовать упрощенное локально-одномерное уравнение Максвелла. Разрядный канал ВГУ–3 не является достаточно тонким (диаметр ~200 мм, длина ~900 мм), и для корректного расчета в этом случае необходимо использовать более точную двумерную модель вихревого электри-ческого поля. С использованием этой двумерной модели проведены расчеты течения и электрического поля в канале плазмотрона ВГУ–3 для мощности по анодному питанию Nap=300 кВт для трех значений давления P=50, 100, 200 гПа, расход воздуха G=11 г/с. Расчеты для P=50 и 200 гПа для ВГУ–3 проведены впервые.