|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИПМех РАН |
||
Structural Properties of Carbon Films Fabricated by Ion-Assisted Pulsed-Plasma Depositionстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 12 января 2022 г.
- Авторы: Zavidovskii I.A., Streletskii O.A., Nishchak O.Yu, Savchenko N.F., Dvoryak S.V., Pavlikov A.V.
- Журнал: Technical Physics
- Том: 65
- Номер: 3
- Год издания: 2020
- Издательство: Maik Nauka/Interperiodica Publishing
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 468
- Последняя страница: 472
- DOI: 10.1134/S1063784220030263
- Аннотация: Carbon films fabricated by pulsed-plasma ion-assisted sputtering of graphite in argon and nitrogen atmosphere are studied using Raman spectroscopy, electron diffraction, and X-ray photoelectron spectroscopy. The results show that nitrogen is efficiently incorporated in the material structure, which leads to formation of oriented graphite nanoclusters the amount of which increases with an increase in the assistance energy.
- Добавил в систему: Завидовский Илья Алексеевич