Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Electron field emission from silicon films deposited by inductively coupled plasma CVD at room temperature. Сборник трудов IV
тезисы доклада
Авторы:
Wang X.Q., Yin M., He D.Y., Karabutov A.V.,
Kazanskii A.G.
Сборник:
Сборник трудов IV Международной конференции «Аморфные и микрокристаллические полупроводники»
Тезисы
Год издания:
2004
Место издания:
Издательство СПбГПУ Санкт-Петербург
Первая страница:
21
Последняя страница:
21
Добавил в систему:
Казанский Андрей Георгиевич