Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Влияние водорода на процессы дефектообразования в a-Si:H
тезисы доклада
Авторы:
Казанский А.Г.
, Миличевич Е.П.
Сборник:
Тезисы докл. Совещания-семинара “Аморф-ные полупроводники и диэлектрики на основе кремния в электронике
Тезисы
Год издания:
1989
Место издания:
г. Одесса
Первая страница:
8
Последняя страница:
8
Добавил в систему:
Казанский Андрей Георгиевич