Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИПМех РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Gas Phase Pore Stuffing for the protection of organo-silicate glass dielectric materials
тезисы доклада
Авторы:
Fujikawa M., Sato N.,
de Marneffe J.F.
,
Chanson R.
, Gavan K.Babaei,
Rezvanov A.
, Lazzarino F.,
Tokei Z.
, Yamaguchi T.,
Nozawa S.
Сборник:
2018 International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM)
Тезисы
Год издания:
2018
Место издания:
IEEE
DOI:
10.1109/issm.2018.8651158
Добавил в систему:
Резванов Аскар Анварович